砷化镓/氮化镓/InP/ZnSe等

产品描述

Pt/Ti/SiO2/Si单晶外延片 薄膜基片 耐蚀性 可用于微电子设备 

可定制尺寸

产品摘要

Pt/Ti/SiO2/Si单晶片是一种层状复合材料，具有多种应用。 Pt/Ti/SiO2/Si单晶片凭借其独特的物理化学性能，在微电子、热电、光电子等领域具有广阔的应用前景。在应用中，如何制备出高质量的Pt/Ti/SiO2/Si单晶片，以及如何精确调控其性能是重要课题。目前，在硅衬底上可以制备普通外延层、多层外延层、超高电阻外延层和超厚外延层。外延层的电阻率可达1000欧姆以上。电导率类型为：P/P++，N/N++，N/N+/N++，N/P/P，P/N/N+。

产品参数

产品特性

结构：这种材料的结构由四层组成。底层是单晶硅（Si），上面覆盖一层二氧化硅（SiO2），再上面是一层钛（Ti），最上层是一层铂（Pt）。每一层的材料都具有其独特的物理和化学性质，它们的组合赋予了这种材料一些特殊的特性。
电性能：Pt/Ti/SiO2/Si单晶片具有优良的电导率和电介质性质，使其在微电子设备和集成电路中有广泛应用。

热性能：这种材料具有良好的热稳定性和热传导性，使其在热管理和热电应用中非常重要。
耐蚀性：这种材料的表面层是铂，具有出色的抗氧化和耐蚀性，这使得它在各种环境条件下都能保持良好的性能。
光学性能：二氧化硅层具有优良的光学透明性，这使得该材料在光电子和光通信应用中具有潜在的应用价值。

产品应用

微电子设备和集成电路
热管理和热电应用
光电子和光通信

产品展示