产品描述
氧化镁MgO薄膜衬底 高熔点 介电常数小 损耗低
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产品摘要
薄膜衬底氧化镁(MgO)单晶是一种优质的衬底材料,具有优异的物理化学性能,如高熔点、低介电常数和损耗、良好的晶格匹配性等。它广泛应用于高温超导、铁电薄膜、磁学薄膜等多种薄膜技术的制造中,以其卓越的稳定性和透明度,为高质量薄膜的生长提供了理想的基础。
产品参数
产品展示
产品特性
介电常数小和损耗低:MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都非常小,ε=9.65(介电常数),这使得它成为当前工业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。低损耗特性对于提高微波器件的性能至关重要。
优异的物理化学性能:MgO单晶具有良好的透明性,能透过紫外至红外的宽频段光谱。
熔点高达2800℃,具有极高的耐高温性能。电介质强度高,硬度高,热稳定性和化学稳定性好。
晶格匹配性好:
MgO单晶的晶格结构与一些重要的薄膜材料(如镍铁氧体和高温超导材料)相似,这有助于降低薄膜生长过程中的晶格失配问题,从而获得更高质量的薄膜。
大面积可用性:MgO单晶基片可以获得大面积的衬底,直径为2英寸或更大,满足大规模生产的需求。
应用广泛:MgO单晶基片广泛应用于制作铁电薄膜、磁学薄膜、光点薄膜和高温超导薄膜等,是多种薄膜技术的理想衬底材料。
改善器件性能:由于其高的电介质常数,MgO单晶可以作为栅极介质在金氧半(MOS)器件中使用,以改善器件性能。
高质量的单晶基片:MgO单晶基片具有高度的晶体完整性,保证了薄膜生长的质量。
产品应用
高温超导薄膜:MgO单晶在微波波段的介电常数和损耗都很小,且能得到大面积的基片(直径2英吋及更大),使其成为当前产业化的重要高温超导薄膜单晶基片之一。可用于制作移动通讯设备所需的高温超导微波滤波器等器件,对于高温超导技术的商业化应用具有重要意义。
磁学薄膜:MgO单晶基片具有优异的物理和化学稳定性,适用于制作磁学薄膜。这些磁学薄膜在数据存储、磁传感器等领域有着广泛的应用。
半导体薄膜:作为半导体薄膜的衬底材料,MgO单晶可以提供高质量的晶体结构,有助于提升半导体器件的性能。广泛应用于半导体电子设备生产中,如电容器、晶体管等,确保元器件在高温环境中的工作稳定性和可靠性。
光学薄膜:MgO单晶在光学波段具有良好的透明性,适用于制作光学薄膜。这些光学薄膜在激光器、光学传感器、光学滤波器等领域发挥着重要作用。
高温器件生长基片:由于其高熔点和优异的化学稳定性,MgO单晶也用作高温器件(如超导量子器件、CT、通讯等)的生长基片。
其他领域:还可作为高温高精度光学材料(航空、航天、激光制导、军工)、等离子显示器薄膜(平板显示器PDP、手机和电视机屏)、高温坩埚材料(中子检测、冶金行业)、高温绝缘材料、光学陶瓷、半导体材料(底衬、传感器)等领域的衬底材料。